在一实施例中，此方法包含在一基板上形成半导体氧化层以及在半导体氧化层上形成一金属氧化物层。

In one embodiment, the method includes forming a germanium oxide layer over a substrate and forming a metal oxide layer over the germanium oxide layer.

youdao

在一实施例中，此方法包含在一基板上形成半导体氧化层以及在半导体氧化层上形成一金属氧化物层。

In one embodiment, the method includes forming a germanium oxide layer over a substrate and forming a metal oxide layer over the germanium oxide layer.

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