顾尔丹，男，1956年6月15日生，1982年在江苏省徐州师范大学获理学学士学位，1985-1988年在中国科学技术大学攻读硕士学位，获理学硕士学位，1988年底到英国阿伯丁大学攻读博士学位，1992年获博士学位。1992年到1997年在英国剑桥大学物理系卡文迪许实验室从事博士后研究，包括超薄薄膜的生长机理，纳米结构，微磁结构，薄膜器件的结构和磁性等多方面的研究。1997年底至2002年初，受聘于英国牛津仪器公司科研部，任高级工程师，从事薄膜生长,纳米结构，薄膜物理性质和超导器件等方面的研究。2002年初至今，在英国Strathclyde大学光电研究所工作。2002年11月受聘为 "长江学者奖励计划"特聘教授，武汉理工大学博士生导师。