采用这种材料时，大多都是通过蒸镀在玻璃底板上形成面板，在涂装上采用金属掩膜（Metal Mask）的方法。不过，由于提高精细度后在金属掩膜的精度等方面还存在需要解决的问题，所以很难实现超过200ppi的精细度。
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精细金属掩膜 fine metal mask ; FMM
精细金属掩膜板 FMM
细金属掩膜 Fine Metal Mask ; FMM
双金属掩膜 bimetal mask
金属硬掩膜 MHM
金属化掩膜 metallizing mask
金属硬掩膜沉积 HM PVD
金属耐接触掩膜 metal in-contact mask
金属掩膜
Metal mask
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最后，采用各项异性的离子束(IBM)加工技术可以通过掩膜来蚀刻孔阵，以制成纳米多孔金属材料。
Last, a technique known as anisotropic ion beam milling (IBM) is used to etch through the mask to make an array of holes, creating the nanoporous metal.
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