退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。 退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。
工业退火炉自动控制系统的设计及应用_自动化毕业论文_毕业论文天下网 关键词：退火炉，三菱PLC，Intouch [gap=1392]Keywords: annealing furnace, Mitsubishi PLC, Intouch
基于1283个网页-相关网页
... annealing device退火装置 annealing oven退火炉 annealing operation退火工序 ...
基于410个网页-相关网页
连续退火炉 continuous annealing furnace ; continuous annealing oven
真空退火炉 vacuum annealing furnace
隧道退火炉 tunnel-type annealing furnace ; tunnel annealing furnace
玻璃退火炉 glass annealing furnace ; glass oven ; glass amalgamateing furnace
分次退火炉 periodic annealing furnace
钟形退火炉 bell type annealing furnace
短暂退火炉 short anneal furnace
特种蒙气退火炉 special atmosphere annealing furnace
连续式退火炉 continuous type annealing furnace
·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
应用推荐