总部同样位于美国加州、在2005年成立的Tela Innovations，成立之初在运算微影(computational lithography)领域与高通(Qualcomm)合作，研发双重图形(double patterning)的多光罩技术;该公司为标准单元逻辑、嵌入式SRAM、类比与I/O功能区块...
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运算微影
Operational shadow
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