... vapor deposition 汽相淀积 ; 气相沉积 ; 汽相相淀积法 ; 蒸镀法 Chemical Vapor catalytic Deposition 化学气相催化裂解法 Vapor-deposition 沉积 ...
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真空制程中，光吸收层制程最常见的为硒化法（Selenization，或称真空蒸镀法）与多源同时真空蒸镀法（Co-evaporation）；前者为商业化量产主要技术，是一种两段式蒸镀法，先形成铜与铟镓薄膜层后，再通入氢化硒（H2Se），并于400～550℃温度下，反应...
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真空蒸镀法 vacuum deposition ; VEROS ; Vacuum Evaporation
真空蒸镀法. Vacuum Evaporation
电子束反应蒸镀法 Reactive Electron Beam Evaporation
电子枪蒸镀法 e-beam evaporation ; Electron Beam Gun Evaporation
电子束蒸镀法 electron-beam vapor deposition method
热蒸镀法 Thermal Evaporation Deposition
薄膜蒸镀法 thin film evaporation technique
和化学蒸镀法 chemical vapor deposition ; CVD
使用气相蒸镀法 atmospheric vapor deposition
但是丝印法的成本远远低于真空蒸镀法。
However, the cost of silk-screen printing is much lower than that of vacuum evaporation.
着重讨论了电子束蒸镀法与磁控溅射法的区别以及电子束蒸镀法的各种影响因素。
Focused on the distinguish of electron beam vapour deposition and magnetron sputtering, and the impact of various factors of electron beam vapour deposition.
本发明还提供上述场发射装置的制造方法，包括采用蒸镀法 在该栅极表面形成该绝缘层。
The present invention also provides the manufacture process of the field emitting device, and the manufacture process includes evaporation step to form the insulating layer on the surface of the grid.
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