胶层均匀
Uniform rubber layer
以上为机器翻译结果，长、整句建议使用 人工翻译 。
在厚胶光刻工艺中重点解决了胶膜厚度的均匀性、胶膜与衬底的粘附性、大厚度差胶层的曝光、显影条件等的优化问题。
Uniformity of the photoresist film, adhesiveness between underlay and glue film, exposal and develop condition of high thickness difference are all solved in the thesis.
youdao
应用推荐
模块上移
模块下移
不移动