... 不可见范围 invisible range 离子辅助沉积 ion assisted deposition 离子束 ion beam ...
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离子辅助沉积电子束蒸发Si基SiO_2薄膜的研究 研究了离子辅助沉积（IBAD）电子束蒸发和传统电子束蒸发两种镀膜方式在Si（100）面基底所镀SiO2光学薄膜的特性。
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等离子体离子辅助沉积 PIAD
等离子辅助沉积 PIAD ; plasma ion assisted deposition ; Plasma Assisted Deposition
离子束辅助沉积 IBAD ; Ion beam assisted deposition ; Ion Beam Enhanced Deposition ; IonBeamAsistedDeposition
离子束辅助沉积技术 IBAD ; ion beam assisted deposition
离子束辅助沉积法 Ion beam assisted deposition
等离子体辅助沉积 PIAD
用离子束辅助沉积 Ion beam enhanced deposition ; Ion Beam Assisted Depostion
采用离子束辅助沉积法 Ion beam assisted deposition ; IBAD
与离子束辅助沉积 Ion Beam Assisted Deposition
在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。
In ion-beam sputtering deposition and ion-beam aid deposition thin film techniques, ion-beam source is one of the key techniques.
并对激光膜的镀膜材料、膜系设计、沉积工艺及离子辅助沉积参数等进行了深入研究。
And coating materials of laser film, coating design, deposition techniques and ion assisted deposition parameters were researched in-depth.
提出了一种新颖的多孔硅表面钝化技术，即采用微波等离子体辅助的化学气相沉积（MPCVD）方法在多孔硅上沉积金刚石薄膜。
A novel passivation technology of porous silicon (PS) surface, i. e. , depositing diamond film on the PS surface by microwave plasma assisted chemical vapor deposition (MPCVD) method, was developed.
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