采用质子激发的X射线能谱分析(PIXE)方法对磁过滤阴极真空弧沉积(FVAPD)装置在Al板上合成Ti膜相对厚度进行了测量,给出了沉积靶室中不同位置大面积合成薄膜的均匀性.
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用磁过滤阴极真空弧沉积(FCVAD)方法在Si衬底上合成了Ta-C薄膜,Raman光谱和光电子能谱(XPS)分析表明衬底加80～100V负偏压时合成的Ta-C薄膜sp3键所占比例最高,可达...
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磁过滤阴极真空弧沉积
Magnetically filtered cathode vacuum arc deposition
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