常见于半导体科研工业领域。利用加速后的电子能量打击材料标靶，使材料标靶蒸发升腾。最终沉积到目标上。 电子束蒸发的特点是不会或很少覆盖在目标三维结构的两侧，通常只会沉积在目标表面。这是电子束蒸发和溅射的区别。
...Fig．1．11 The figure ofthe magnetron sputtering device 1．3．3电子束蒸发（EBE） 电子束蒸发（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种。所谓物理 气相沉积，是利用热蒸发或辉光放电或弧光放电灯物理过程使材料沉积在衬底上 的薄膜制备技术。
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2.e-beam evaporation电子束蒸发(e-beam evaporation) : 利用聚焦的电子束的能量达到相变的方法. 用来使金属或合金从固态转为气态.
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... electron generally beam welding 电子束焊接 electron evaporation beam 电子束蒸发 electron-beam modification 电子束改性 ...
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电子束蒸发法 EBE
电子束蒸发系统 E-Beam Evaporation System
电子束蒸发仪 Electron Beam Evaporation Deposition System
电子束蒸发器 electron beam evaporator
和电子束蒸发 Electron beam evaporation ; E-BE
电子束蒸发淀积法 electron beam vapor deposition method
电子束蒸发源 E-Beam Sources
电子束蒸发沉积 electron-beam evaporation
在线电子束蒸发系统 In-line E -Beam Evaporation System
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指电子束蒸发器或曝光系统。
采用电子束蒸发沉积技术制备了平板偏振膜。
The flat polarizer was prepared by electron beam evaporation and its optical performance was measured by Lambda900 spectrometer.
Ta2O5薄膜采用传统的电子束蒸发方法沉积在BK7基底上。
Ta2O5 films are prepared on BK7 substrates with conventional electron beam evaporation deposition.
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