借由有效地利用电子束直描(EbDW)方法，电子束导向设计(DFEB)可降低光罩成本同时还可透过缩短微影制程技术导向设计(design-to-lithography)的制程流程达到加速产品快速上市。
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此平台主要致力于教育及推广新的可制造性设计(design-to-manufacturing)方法，也称作电子束导向设计(Design for e-Beam，DFEB)；借由降低半导体设备的光罩成本，DFEB被视为成为增强设计启动以及缩短半导体设备上市时间的最终关键。
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也称作电子束导向设计 Design for e-Beam
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