我们在这里报告两个过程在原地，自对准铌制造的约瑟夫森隧道结和SNS微桥在暂停的金属网板制造用电子束光刻（EBL）是通过不同角度的多个蒸发。已经证明这两种技术优于前面所有聚合物悬浮掩模，特别是用电子枪蒸发难熔金属，如铌。
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... background背景 beamwriterlithography电子束光刻 azimuthdrive方位角驱动 ...
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另外一种比较有潜力的电子束投影光刻技术是限角度散射投影电子束光刻 ( SCALPEL) , 由于 SCALPEL 的原理非常类似于光学光刻技术, 使用散射式掩模板( 又称鼓膜) 和缩小分步 扫描投影工作方式, 具有分辨率高( 纳米...
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矢量扫描电子束光刻 vector scan electron beam lithography ; vector scan electron beam bitey
直写式电子束光刻 direct write electron beam lithography
扫描式电子束光刻 write electron beam lithography
光栅扫描电子束光刻 raster scan electron beam lithography
直写式电子束光刻装置 direct write electron beam system
电子束光刻用铬掩模 electron chrome mask
电子束光刻胶 [电子] electron beam resist ; Electron beam
电子束光刻技术 SCALPEL ; electron beam lithography ; EBL
扫描电子束光刻 SEBL
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同时还介绍了电子束光刻技术及其改进。
The electron beam lithography and its improvement are introduced also.
采用新型的多层抗蚀剂结构的电子束光刻来形成图形。
Electron - beam lithography with a novel multilevel resist structure defines the pattern.
利用电子束光刻技术制作了基于钛酸钠纳米线的纳米器件。
Individual sodium titanate nanowire-based device is fabricated via e-beam lithography techniques.
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