采用等离子体浸没离子注入与沉积技术(PIIID),在T225NG钛合金基材上制备了TiN/Ti复合涂层。对沉积涂层的组织和化学成分作了XPS和AES分析,用扫描电镜SEM、能谱仪 .
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(Self -Assembly Technology) 二、刻蚀技术(Etching Technology) 三、沉积技术(Deposition Technology) 四、其他技术 第四节 超材料技术应用难点分析 一、超材料电磁参数提取技术 二、超..
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(c) 浮质沉积技术( Aerosol Deposition) 纳米晶的浮质沉积技术(aerosol deposition)，通常先在950°C 将稀释的硅烷高温 分解生成硅纳米晶体气相浮质，这种硅纳米晶颗粒最初的形成是由同类的气相成核 并通过气相沉积...
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原子层沉积技术 Atomic Layer Deposition ; ALD ; ALD-atomic layer deposition
离子束辅助沉积技术 IBAD ; ion beam assisted deposition
气相沉积技术 vapor deposition technique
化学气相沉积技术 CVD ; Chemical Vapor Deposition ; [化工] chemical vapour deposition technique
静电喷雾沉积技术 Electrostatic Spray Deposition
纳米薄膜气相沉积技术 NFVDT
电化学沉积技术 electrochemical deposition technology
本文介绍了等离子增强磁控溅射沉积技术。
This article presents an introduction to Plasma enhanced, magnetron sputtered deposition Technology.
火焰沉积技术是制备纳米级钒磷氧化物的方法之一。
Flame Deposition Technique is one of method of preparing nanostructured Vanadium phosphorus Oxide.
与其它物理气相沉积技术也作了定性和定量的比较。
Quantitative and qualitative comparisons are carried out with other physical vapour deposition techniques.
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