...mpany公布了其process的roadmap，已经在45nm“Shanghai”处理器制造上成功应用的沉浸式光刻技术(Immersion Lithography process)将在明年的32nm工艺上发挥至关重要的作用。
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沉浸式光刻技术
Immersive lithography
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沉浸式光刻技术是在传统的光刻技术中，其镜头与光刻胶之间的介质是空气，而所谓浸入式技术是将空气介质换成液体。实际上，浸入式技术利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率。
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