次大气压化学气相沉积
Subatmospheric pressure chemical vapor deposition
以上为机器翻译结果,长、整句建议使用 人工翻译 。
本发明描述使用定向反应物气流和相对于所述气流移动的基板的次大气压化学气相 沉积。
Sub-atmospheric pressure chemical vapor deposition is described with a directed reactant flow and a substrate that moves relative to the flow.
youdao
应用推荐
模块上移
模块下移
不移动