• maskless lithography - 引用次数：4

  As for the reality and application of maskless lithography, this paper studies the micro-actuator, defocusing sources, dynamic focusing characteristics, system hardware, system software, fabrication of rotation symmetric figure, etc.

  在无掩膜光刻系统的实现和应用方面,研究了微位移执行器、动态离焦源、调焦动态特性、系统硬件、系统软件,以及在制作旋转对称图形上的应用等等。

  参考来源 - 可变线宽的无掩膜光刻理论与技术研究

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