第二个步骤，我们利用非等向性蚀刻， 例如：反应性离子蚀刻(Reactive ion etching，RIE)，去移除被压印之区域之剩馀光阻。
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反应性离子蚀刻型 Reactive ion etch mode
反应性离子蚀刻
Reactive ion etching
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