3.2.2CVD法制备薄膜的内应力 Chemical Vapor Deposition（化学汽相淀积）是薄膜生长的另一种重要的方法，是在较高压力下从汽相中向衬底沉积薄膜的过程。
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【正文快照】： 一、引言 化学汽相淀积(CvD)是一个复杂的过程,对竹的热力学分析是深入了解该过程的基础之一迄今对GoAs CvD的热力学分析,绝大多数都是针对用氢气作运载气体的...
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...前制备BST薄膜的方法主要有：溶胶一凝胶法 （Sol-Gel）圈、金属有机物化学汽相淀积（Metal Organic Chemical Vapor Deposition，MOCVD）t231、脉冲激光淀积（Pulsed Laser Deposition， PLD）【24】、溅射法（...
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真空化学汽相淀积 vacuum chemical vapor deposition ; v cvd ; vacuum actinic vapor deposition
低压化学汽相淀积 LPCVD ; low pressure chemical vapor deposition ; Low Pressure
常压化学汽相淀积 atmospheric pressure chemical vapor deposition ; apcvd
化学汽相淀积膜 chemical vapor deposition film
改进的化学汽相淀积 modified chemical vapor deposition ; mcvd
高温化学汽相淀积 high temperature chemical vapor deposition
外延化学汽相淀积 epitaxial cvd
化学汽相淀积硅 cvd silicon
化学汽相淀积氧化物 cvd oxide
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