资料信息 毫升光刻胶液。这种低量光刻...... 光刻误差的计算方法 本发明提供一种光刻误差的计算方法,其利用类神经网络模型(Neural Network model,NN model)计算半导体光刻工艺中叠对(overlay)的误差值,将误差源设为多个由多个细胞元(cell)所构成的
基于4个网页-相关网页
...oetching error computing method] 本发明提供一种光刻误差的计算方法,其利用类神经网络模型(Neural Network model, NN model)计算半导体光刻工艺中叠对(overlay)的误差值,将误差源设为多个由多个细胞..
基于2个网页-相关网页
应用推荐