光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。
关键词：ITO玻璃基板；光刻胶；涂胶厚度；涂胶均匀性；涂胶缺陷 [gap=692]Key words: ITO glass; Photoresist; Film thickness; Film equality; gelatinizing defect ...
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As a result, it is reasonable to regard the thick film photo resist as grating with variable refractive index during exposure process.
由于厚层光刻胶折射率在空间上呈缓慢变化的特点，为降低其数值计算量和编程难度，可以将厚层光刻胶近似为折射率随曝光时间变化的光栅。
参考来源 - 期刊学术社区The integrated performance of photoresist was improved.
使光刻胶的综合性能得到提高。
参考来源 - TFTDifferent baking condition and thickness of photoresist result in different photoresist characteristic parameters.
本文对BN303-30光刻胶展开光刻实验,不同的光刻胶厚度和烘培条件都会导致不同的光刻胶特性参数。
参考来源 - （100）、（110）硅片湿法各向异性腐蚀特性研究·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。
The method on profile - control of micro - optic element in photoresist was presented.
用熔融缩聚法含成的聚酯型光刻胶有较宽的分子量分布。
The polyester type photoresists made by melt polycondensation have wide molecular weight distribution.
采用全息法制备了光刻胶光栅，并用该光栅掩膜离子蚀刻。
Photoresist grating was fabricated by holography, and it was used in the mask of ion etching.
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