X射线光刻（XRL） XRL光源波长约为1纳米。由于易于实现高分辨率曝光，自从XRL技术在70年代被发明以来，就受到人们广泛的重视。欧洲、美国、日本和中国等拥有同步辐射装置的国家相继开展了有关研究，是所有下一代光刻技术中最为成熟的技术。XRL的主要困难是获得具有良好机械物理特性的掩膜衬底。近年来掩膜技术研究取得较大进展。SiC目前被认为是最合适的衬底材料。由于与XRL相关的问题的研究已经比较深入，加之光学光刻技术的发展和其它光刻技术的新突破，XRL不再是未来"惟一"的候选技术，美国最近对XRL的投入有所减小。尽管如此，XRL技术仍然是不可忽视的候选技术之一。 XRL是一条单片机逻辑运算指令，执行异或运算。“异或”运算是当两个操作数不一致时结果为1，两个操作数一致是时结果为0。有六种语法： XRL A,Rn ;A和Rn中的值按位'异或'，结果送入A中 XRL A,direct ;A和direct中的值按位'异或'，结果送入A中 XRL A,@Ri ;A和间址寻址单元@Ri中的值按位'异或'，结果送入A中 XRL A,#data ;A和立即数data按位'异或'，结果送入A中 XRL direct,A ;direct中值和A中的值按位'异或'，结果送入direct中 XRL direct,#data ;direct中的值和立即数data按位'异或'，结果送入direct中