whole wafer exposure 整片曝光
full wafer exposure 整片曝光
Wafer Exposure Equipment 芯片曝光设备
whole e wafer exposure 整片曝光
Wafer Edge Exposure 片边缘曝光 ; 即硅片边缘曝光 ; 即硅片边沿曝光 ; 片边沿曝光
wafer exposure
片曝光
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In this paper, the principle of electron beam write wafer is discussed briefly distinguish topography mark, and make the technology of wafer mark which is found by the electron beam exposure system.
本文扼要介绍了电子束直写圆片的原理，地形标记的识别，以及电子束曝光系统能识别的圆片标记的制造技术。
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