T I SI 2 普遍地用在一种称为“自对准金属硅化物”（Self-Aligned Silicide） 的工艺中，它与SI 可形成欧姆接触。
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它除了可以提供源极/汲极中的 掺杂物原子一个扩散缓冲区,在自我对准金属矽化物(Self-aligned silicide, Salicide)的制程中,更可以..
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Method of fabricating self-aligned silicide 发明名称
Self-Aligned Co-Silicide 自行对准硅化物钴
self-aligned silicide
自对准硅化物
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