次常压化学汽相沉积(SACVD)设备简介 Author: 何小刚, from Applied Materials China, --SolidState Technology( China) 前言 化学汽相沉积（CVD）是半导体工...
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其他一些传统CVD工艺，如常压CVD(APCVD)和亚常压CVD(SACVD)虽然可以提供对小至0.25微米的间隔的无孔填充，但这些缺乏等离子体辅助淀积产生的膜会依赖下层表面而显示出不同的淀积特性，另外...
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