PVD(Physical Vapor Deposition)，指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以是某些有特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等）的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。 PVD基本方法：真空蒸发、溅射 、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）。
...。采用低压LPCVD可以提供蒸发气体的传输沉积速度。激光等离子体、微射频RW-PCVD和金属有机化合物MOCVD等也各有特点，因此广泛用于微电子和光电子工业。但在重要部件需要耐磨蚀方面也有探索的可能。物理气相沉积（PVD）是包括离子镀、真空蒸发镀和溅射三类，可更方便地沉积化学气相沉积工艺所能沉积的各种涂层，而且具有比CVD更为实用的二个特点，要...
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主要电镀品种有： 1、真空镀膜（PVD）：IPS、IPG、IPS间IPG、IP白铬、IP白铬间IPG、IP咖啡、IP灰、IP白金、IP黑、IP蓝等；2、化学镀（水镀）：酸金PNP、PCP、PDP、白金...
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EB-PVD 沉积 ; 技术 ; 积技术 ; 电子束物理气相沉积
PROVIDENCE PVD 普罗维登斯
TE-PVD 蒸镀
Moser baer PVD 冷凝泵 ; 分子真空泵
LS-B-TM-PVD 桑拿柜锁
TM-PVD 桑拿柜锁
PVD&CVD 气相沉积
AlN PVD 氮化铝薄膜沉积
Hot-Wall PVD 热壁物理气相沉积法
The recent status of several new technologies of magnesium alloy surface’s modification; ①microplasma anodization. ②laser treatment, ③ion inplantation, ④ physics vapour deposition (PVD). is reviewed.
综述了几种镁合金表面改性新技术:①等离子微弧阳极氧化;②激光处理;③离子注入;④物理气相沉积的研究现状,并分析了它们的研究和应用前景。
参考来源 - 镁合金表面改性新技术·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
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