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hpcvd

网络释义专业释义

  化学气相沉积

以原位物理化学气相沉积(HPCVD)一步法,也制备出性能优良的MgB2超导薄膜。提出了以晶形单质硼为介质层的MgB2-B-MgB2超导SIS多层膜的制备方法,并开发出了和现行微...

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  沉积法(Hybrid Physical Chemical Vapor Deposition)

目前制备 我们用混合物理化学气相沉积法(HPCVD)制备MgB2线材和带材的主要方法有粉末填管法(PIT)一j,也 出了Cu衬底一l-_长有MgB2超导晶须的厚膜。

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  混合物理化学气相法

... 双温区混合物理化学气相法制备MgB2超导薄膜技术 本文介绍了一种薄膜基底与镁源蒸发放置在不同温区的混合物理化学气相法HPCVD)制备MgB2超导薄膜的技术.以B2Hs为硼源,在(0001)取向的Al2O3单晶基底上在不同的基底温度下制备了MgB.e超导薄膜.采用扫描电子...

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  化学沉积法

关键词: MgB2 超薄膜,混合物理化学沉积法 ( HPCVD) ,10nm厚超薄膜 PACC: 7460 ,7470 ,7475 PROPERTIES OF MGB2 ULTRA2THIN FILMS GROWN BY HYBRID PHYSICAL2CHEMICAL VAPORDEPOSIT...

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  • 高压化学气相沉积

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