...技术于R2R 紫外光压印制程之应用,包含模板的 抗沾粘处理,如自我排列单分子薄膜(SAM)、类钻石薄膜(DLC)及 含氟类钻石薄膜(F-DLC),及大气电浆对软性基材表面处理的重要性. .
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