刻录的过程是经由一套非常烦 杂的光学系统[5],由光源、聚光镜 (condenser)、光罩 (mask) 和曝光系统 (exposure system) 等四个部份所构成,其刻录品质的优劣会直接反应在设计产出后的积体电路的 电路特性上。
基于52个网页-相关网页
electron beam exposure system 电子束曝光器 ; 电子波束曝光系统 ; [电子] [摄] 电子束曝光系统 ; 电子束曝光
Auto exposure system 自动暴光系统
E-beam Exposure System 电子束曝光系统
step and repeat exposure system 步进式投影曝光设备
multiple electron beams exposure system 多重电子束曝光系统
Animal exposure system 动物暴露系统
digital exposure system 数字曝光系统
automatic exposure system 自动曝光系统
Steve Jobs unveils a new photo exposure system for the iPhone.
乔布斯展示了iPhone的全新照片曝光系统。
By showing the composition and key technologies of the exposure system, the challenges in development of lithography instrument are discussed.
通过分析曝光系统的构成和其中的关键技术,探讨了国内研制相关曝光设备所面临的挑战。
A scan field distortion correction function fore-beam exposure system is deduced on the basis of the plane field alternation principle, and a simulative fruit is given by computer.
根据平面区域变换的原理,导出电子束曝光机扫描场的畸变校正函数,并给出计算机模拟校正的结果。
应用推荐