2、高效率光刻:采用“平铺光束频闪曝光(Tile Beam Flash Pattern,TBFP)”模式,逐光斑 曝光,光刻效率取决于频闪速率和光斑尺寸,与光斑内调制的微-纳米结构无关。
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tile beam flash pattern
瓦束闪光图案
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