硅薄膜
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a-si h films 非晶硅薄膜
si h films
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Plasma chemical vapor deposition in silane radio frequency glow discharge is a main fabrication technology of hydrogenated amorphous silicon (a-Si: h) films.
射频辉光放电硅烷等离子体化学汽相沉积是制备氢化非晶硅薄膜的主要工艺技术。
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