1 NdFeB永磁薄膜的制备方法1.1磁控溅射法磁控溅射法(magnetron sputtering)是NdFeB永磁薄膜最常用的制备方法之一,其制备原理是在高真空充入适量氩气,经阴极和阳极所加的高直流电压(约几百千伏)的作用,在溅...
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定义 中文名称： 磁控溅射镀 英文名称： magnetron sputtering 定义： 采用磁场束缚靶面附近电子运动的溅射镀。 应用学科： 机械工程（一级学科）； 表面工程（二级学科）； 气相沉积（二级学科） 以上内容由 全国科学
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RF Magnetron Sputtering 射频磁控溅射 ; 射频磁控溅射法 ; 溅射技术
Magnetron Sputtering System 磁控溅射系统 ; 磁控管溅镀系统
ExB magnetron sputtering system 直交电磁场型溅镀系统
planar magnetron sputtering system 平面磁控管溅镀系统
coxial magnetron sputtering system 同轴磁控管溅镀系统 ; 遮盖力
unbalanced magnetron sputtering 非平衡磁控溅射 ; 采用非平衡磁控溅射
magnetron sputtering method 磁控溅射法
Reactive magnetron sputtering 溅射法 ; 反应磁控溅射
DC Magnetron Sputtering 直流溅射 ; 磁控溅镀 ; 直流磁控溅射
Titanium nitride thin film is deposited on Si(111) substrate by DC reactive magnetron sputtering.
采用直流反应磁控溅射方法在Si(111)基底上沉积了氮化钛薄膜。
参考来源 - 溅射气压对磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响The results of this work are summarized as follow:1. We deposited ZnO films on different kinds of substrates by the method of RF magnetron sputtering.
主要研究工作和结论如下:1、采用射频反应磁控溅射的方法,在不同衬底上制备了ZnO薄膜。
参考来源 - ZnO薄膜的制备及其特性研究·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
All samples were prepared by rf magnetron sputtering method.
所有样品采用射频辅助磁控溅射方法制备。
Magnetron sputtering has become one of the most important methods for depositing thin films.
磁控溅射已经成为沉积薄膜的最重要的方法之一。
The power supply will be convenient for controlling the magnetron sputtering coater automatically.
该电源为磁控溅射镀膜设备实现自动控制提供了方便。
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