而实际上线宽定义半导体工艺先进程度并不准确,更有意义的是栅极距(gate pitch)、鳍片间距(Fin Pitc)等,为此,业内对比过英特尔与台积电、三星的16、14nm工艺,结果英特尔的14nm工艺在这些关键指标上要比三星、台积电好得多,这两...
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fin pitc
鳍由供应者
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