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critical dimension
美 [ˈkrɪtɪkl dɪˈmenʃn; ˈkrɪtɪkl daɪˈmenʃn]

  • 临界维度：在物理学中，临界维度是指相变特性发生改变的空间维度。

网络释义专业释义英英释义

  [统计] 临界尺寸

但我查了下也有个 critical dimensions(临界尺寸),是不是和这句里的同一个意思?

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  重要尺寸

... fourth dimension第四度空间;四维空间 critical dimension临界尺寸;重要尺寸 basic dimension基准尺寸 ...

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  关键尺寸

在开发关键尺寸(critical dimension，CD)更小、集成度(integration)更高的工艺技术中，微影工艺(photolithography)是重要的关键步骤之一。

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  特征尺寸

刻蚀：在逻辑和存储器件中，对特征尺寸（Critical Dimension, CD）和深度控制的要求 越来越高。

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短语

critical dimension loss 临界尺寸损失

CD-Critical Dimension 关键尺寸

Optical Critical Dimension 光学线宽测量仪

Critical Job Dimension 关键性工作因子 ; 要害性工作因子 ; 症结性工作因子

critical dimension uniformity 件尺寸一致性

spectroscopic critical dimension 分光镜关键尺寸

the critical dimension 临界尺寸的

bottom critical dimension 底部关键尺寸

Critical Dimension Scan Electronic Microscope 还包括用于微影制程的显微镜及微距量测扫瞄式电子显微镜

 更多收起网络短语
  • 临界尺寸 - 引用次数：10

    In this research, the author got the relationships of Critical dimension of poplar dying, the length of wood, equivalent diameter, drying temperature, pressure and so on.

    研究表明:杨木真空干燥临界尺寸的大小与木材的长度、当量直径、干燥温度、环境压力等因素有关。

    参考来源 - 杨木真空过热蒸汽干燥规律的研究
  • 关键尺寸 - 引用次数：2

    Semiconductor critical dimension getting shortens as the IC manufacture rapid development and advanced microlithography technical, but the critical dimension requires a better overlay.

    随着IC制造业的迅速发展,光刻成像技术的不断提高,芯片的特征尺寸也不断的缩小,而关键尺寸的缩小则产生了对套刻精度更高的要求。

    参考来源 - Canon KrF扫描光刻机套准精度的改进方法研究
    临界尺寸 - 引用次数：2

    参考来源 - 红外隐身涂料涂敷效果评估系统研究
  • 临界尺寸
  • 临界尺寸

·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress

Critical dimension

  • abstract: In the renormalization group analysis of phase transitions in physics, a critical dimension is the dimensionality of space at which the character of the phase transition changes. Below the lower critical dimension there is no phase transition.

以上来源于: WordNet

双语例句权威例句

  • Critical Dimension Correction.

    临界尺寸改正。

    youdao

  • A method for improving the critical dimension uniformity of a patterned feature on a wafer in semiconductor and mask fabrication is provided.

    一种在半导体与罩幕制造中改善晶圆上的图案化特征结构的临界尺寸均匀性的方法。

    youdao

  • Uniform etching allows for an efficient method of reducing a critical dimension of an electrically active structure by simple isotropic etch.

    均匀的蚀刻允许通过简单的各向同性蚀刻来减小电活性构件的临界尺寸的有效方法。

    youdao

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