非晶或锐钛矿结构的氧化钛薄膜在900℃以上的温度退火,可以得到金红石型的氧化钛薄膜[12]。高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)是一种利用较高的脉冲峰值功率和较低..
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下一代技能 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS或HPPMS)是一种新式磁控溅射技能，它能在50~200微秒的时间内发生kW/cm2量级的超高能脉冲，其重复频率能够到达100Hz以上。
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高功率脉冲磁控管溅射 HIPIMS
高功率脉冲磁控溅射
High power pulse magnetron sputtering
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