三星电子2005年才跨入晶圆代工领域，短短几年内成绩斐然，不仅透过量产28奈米低耗电高介电层金属闸（High-k Metal Gate，HKMG）制程，拿下苹果双i订单，还积极到全球各地挖角人才，屡延揽曾在台积电任职的员工。
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三星电子2005年才跨入晶圆代工领域，短短几年内成绩斐然，不仅透过量产28纳米低耗电高介电层金属闸(High-kMetalGate，HKMG)制程，拿下苹果双i订单，还积极到全球各地挖角人才，屡延揽曾在台积电任职的员工。
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高介电层/金属闸 High-k Metal Gate
高介电层╱金属闸 High-k Metal Gate ; HKMG
高介电层／金属闸 High-k Metal Gate
高介电层金属闸
High dielectric layer metal gate
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