X射线光刻技术(XRL)的特点 •波长短,可获得极高的分辨率; •焦深容易控制; •X射线可用高能电子束轰击不同的金属靶材料产生,也可用激 光等离子体...
基于60个网页-相关网页
射线光刻技术 x-ray lithography
立刻光线追踪技术 Ray Tracing
线光刻技术
Line lithography
以上为机器翻译结果,长、整句建议使用 人工翻译 。
弥补了原子光刻技术中利用激光驻波场控制原子堆积只能制作单一量子点、线等周期性图形的不足。
It can make up the shortage that only the periodic dots or lines can be made when using laser standing wave field to control the atoms to stack on wafer in atom lithography.
youdao
应用推荐
模块上移
模块下移
不移动