高苑技术学院电子工程系杨耀升 - docin.com豆丁网 学气相沈积法(PECVD) 4.光反应式化学气相沈积法(PHCVD) 高苑技术学院电子工程系杨耀升 常压化学气相沈积法(APCVD,Atmospheric pressure CVD) 在气压接近常压下进行CVD反应的一种沈积方 式,此法的沈积速度极快,约为600-1000奈米 /分
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有常压化学气相沈积法
There are atmospheric pressure chemical vapor deposition methods
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