12 吋原子层沉积系统（Atomic Layer Deposition System, ALD） 为解决我国半导体学术研究在元件制 程上之瓶颈与降低对于进口设备过度依 赖，仪科中心以其真空技术与国...
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12 吋原子层沉积系统（Atomic Layer Deposition System, ALD） 为解决我国半导体学术研究在元件制 程上之瓶颈与降低对于进口设备过度依 赖，仪科中心以其真空技术与国...
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...学院 主要成就 Gordon院士）,2004 -2009 原子层沉积及化学气相沉积 搭建和改造两台原子层沉积系统(Atomic Layer Deposition，ALD)并用于薄膜生长的机理和性能改进研究。
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