光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辐射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。 光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命，完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。具有成像极其清晰，无需印泥，即印即干的特点。其印迹可与印刷品质媲美，是目前最好的、最先进的印章产品，美观耐用，无须印台。（一次注油可印1000次以上，并可反复注油。） 作为目前国际上最新型的一种印章，它以制作简单快捷，印章清晰，使用寿命长，适用性强，在我国得以迅速推广，成为我国印章行业升级换代产品，随着公安部标准GA241.9―2000的颁布实施，光敏印章已被认定为符合标准的首选印章。