就当今主流的集成电路制造技术而言，光刻分辨率增强技术（Resolution Enhancement Techniques，RETs）使得制造比光刻所用光源波长小两到三倍的特征尺寸成为可能，现在193nm波长的光源被用来生产65nm工...
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就当今主流的集成电路制造技术而言,光刻分辨率增强技术(ResolutionEnhancement Techniques,RETs)使得制造比光刻所用光源波长小两到三倍的特征尺寸成为可能,现在193nm波长的光源被用来生产65nm工...
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基于光学邻近校正的双重图形研究-潘意杰_科技论文,标准论文格式范文,论文格式模板-论文发表找文通天下 面临更高要求和挑战，双重图形技术(Double Patterning Technology，DPT)作为最新提出的光刻分辨率增强技术(Resolution Enhaneement Technology，RET)，其在45nm及以下节点设计制造的重要性已在最近的国际半导体技术路图(ITRS-2007)得到阐述，
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