他们更使用原子层沉积技术(ALD, atomic-layer deposition) ﹐可以准确地控制ZrO2的厚度达到数奈米。如此﹐元件的耦合电容就不至受到尺寸缩小的影响。
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使用原子层沉积技术
Atomic layer deposition technique is used
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