... Stress 内应力 STRIP: 一种湿法刻蚀方式 TEOS – (CH3CH2O)4Si 四乙氧基硅烷/正硅酸四乙酯，常温下液态。作LPCVD /PECVD生长SiO2的原料。又指用TEOS生长得到的SiO2层。 ...
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一种湿法刻蚀方式
A wet etching method
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