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化学机械抛光技术

网络释义

  chemical mechanical polishing

...散稳定剂依据进口优质配方配制而成,是一种高纯度低金属离子型抛光产品; 化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表...

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双语例句

  • 化学机械抛光技术是迄今几乎唯一的全局平面化技术

    At present, chemical-mechanical polishing (CMP) has become a widely accepted global planarization technology.

    dict.cnki.net

  • 碱性介质氰化钾钝化剂化学机械抛光技术CMP过程中的化学行为进行了在线测试

    Electrochemical behaviours of copper during CMP were measured in situ in weak alkaline media with potassium ferricyanide as passivator.

    dict.cnki.net

  • 用于甚大规模集成电路(ULSI制造关键平坦化工艺———化学机械抛光CMP技术进行了讨论

    The copper chemical-mechanical polishing (CMP) which is the key planarization technology for ULSI manufacturing was discussed.

    www.dictall.com

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