据EE Times网站报道，德国Vistec半导体公司声称，电子束光刻（E-beam lithography）与传统的光学光刻两种技术不应互相排斥，而可以很好的结合，以节省制造时间和成本。
基于44个网页-相关网页
...系99 级 王莹 本文首先介绍了北京大学最新引进的聚焦离子束纳米工作站(FIB)、台湾清华大 学的电子束曝光系统(E-beam Lithography)，阐述了其结构、工作原理，以及 操作使用方法。
基于16个网页-相关网页
...数千万美元以上）且维护成本高，对于成本考量要求严格的产业界是一 项沉重的负担，而电子束微影技术（EBL, E-Beam Lithography）虽是最受重视且使用最久的，其最 小线宽也可达10 nm，然而EBL 所需的工作时间过长，不适合量产所...
基于16个网页-相关网页
E-Beam Lithography System 电子束微影系统 ; 电子束曝光机
E-beam lithography machine 电子束曝光机
e beam lithography machine 电子束曝光机
e-beam lithography techniques 电子束光刻技术
E-beam nano-lithography technology research 电子束纳米光刻技术研究
e-beam projection lithography 电子束投影曝光
The proximity effect in the E-beam lithography system was verified by experiments.
利用电子束曝光机完成有关邻近效应的实验。
The high speed Patten Generator is designed for nanometer E-beam lithography system.
为满足纳米级电子束曝光系统的要求，设计了高速图形发生器。
The proximity effect in the SDS-3 E-beam lithography system is verified by experiments.
利用SDS - 3电子束曝光机完成有关邻近效应的试验。
应用推荐