...WC−Co substrates; deposition parameters [gap=25582]关键词：热丝化学气相沉积；金刚石薄膜；WC−Co硬质合金基体；沉积参数 ...
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The optimum deposition parameters of films are as follows: substrate temperature of 150 癈 and sputtering pressure of 4.5 X ICT'Pa Ar+.
通过反复研究，确定了在实验中采用的磁控溅射系统中制备稀土系薄膜的最佳工艺参数，发现衬底温度150℃，溅射氩气的气压为4.5×10~(-1)Pa时比较适宜。
参考来源 - 稀土系薄膜的制备及性能研究The key deposition parameters are substrate temperature, radio frequency power, reactant gas ration and reaction pressure.
影响氮化硅薄膜性能的主要沉积参数有沉积温度、射频功率、反应气体流量比、反应压强,此外还有本底真空度、射频频率、反应室几何形状、电极距等。
参考来源 - TFT栅绝缘层用氮化硅薄膜的研究The effects of deposition parameters on the performance of vanadium oxide thin films are analyzed by orthogonal experiments.
运用正交实验进行了工艺参数的研究,通过选择不同的工艺参数和不同的参数水平,得到了各工艺参数对薄膜性能的影响。
参考来源 - 非制冷红外探测器用高TCR氧化钒薄膜的制备研究·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
In experiment, a series of silicon nitride thin films are prepared on cleaned silicon wafer by varying deposition parameters.
本实验通过系统地改变沉积参数，在经过清洗好的单晶硅片上沉积了一系列的氮化硅薄膜。
And coating materials of laser film, coating design, deposition techniques and ion assisted deposition parameters were researched in-depth.
并对激光膜的镀膜材料、膜系设计、沉积工艺及离子辅助沉积参数等进行了深入研究。
We have discovered that it is possible to tune the stress of a single-layer silicon nitride film by manipulating certain film deposition parameters.
我们已经发现，可以通过操作某些膜沉积参数来调节单层氮化硅膜的应力。
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