还有直流反应磁控溅射工艺，可涂覆出氮化碳（CxNy）超硬薄膜。CVD方法中包括高温化学气相沉积（HTVCD），工艺温度约为1000℃；还有等离子体化学气相沉积（PCVD），工艺温度约为700～...
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