新出现的催化化学气相淀积法(Cat-CVD)与PECVD法相比,具有淀积速率高﹑原料气体利用效率高﹑衬底温度低﹑生长的薄膜致密﹑电学特性好等优点,将更有希望成为TFT用硅薄膜...
基于20个网页-相关网页
...非晶硅薄膜的沉积技术主要有：等离 子体增强化学气相沉积（PECVD）、射频化学气相沉积（RF-CVD）、热丝化学气相 沉积（Cat-CVD）以及微波等离子体化学气相沉积（M1｜『EcRCVD）等等。
基于8个网页-相关网页
... 微波电子回旋共振化学气相沉积(MWECR-CVD) 触媒化学气相沉积(Cat-CVD) 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) ...
基于1个网页-相关网页