• It can be used for single ion implantation, ion beam mixing, single ion or reactive ion beam sputter-deposition and ion beam enhanced deposition.

    用于离子注入离子束混合,单离子反应离子束溅射以及离子束增强淀积。

    youdao

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    用于离子注入离子束混合,单离子反应离子束溅射以及离子束增强淀积。

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